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  项目简介

  电镜分析技术对样品厚度、导电性、磁性等有着严格的要求。制样的好坏也影响着测试结果,所以对不同的材料应考虑其特性并采用合适的制备方法。

  常用方法

  电解双喷制样:电解双喷减薄仪被广泛应用于透射电镜的样品制备,可在较短时间内制备出高质量的透射电镜样品。两个喷嘴同时减薄样品的两面,在样品穿孔的瞬间红外检测系统会迅速反应自动终止减薄,确保薄区的完整。其主机包括两个电解液槽,隔热型使用内置冷却管冷却,非隔热型使用电解液冷却,电子温度计实时的显示电解液的温度。

  聚焦离子束(FIB)制样:适用结构分析、材料表征、三维重构、材料转移等领域,该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。

  离子减薄:用于TEM样品制备,应用范于陶瓷、半导体、合金及薄膜截面样品离子束减薄,适用于合金样品表面氧化膜去除,运用该仪器制备的样品中间的薄区可用于透射电镜观测。

  超薄切片:由于电镜产生的电子束穿透能力很弱,必须把标本切成厚度小于0.1um以下的薄片才适用,这种薄片称为超薄切片。常用的超薄切片厚度是50-70nm。主要针对有机聚合物材料,块体薄膜均可,有一些材料可能需要包埋后进行切片,有些生物类材料需要需要经过取材、固定、脱水、浸透、包埋聚合、切片及染色等步骤。


  常见问题

  1. FIB制样接样注意事项是什么?
  (1)首先样品成分,是否导电;导电性差的话样品要喷金;
  (2)其次FIB的目的,截面看SEM还是TEM;TEM是做普通高分辨还是球差,普通的高分辨减薄厚度比球差要厚一些,最薄可以减薄到十个nm左右的厚度;
  (3)进而切割或取样位置:最好能提供位置示意图;
  (4)询问材料是否耐高压,FIB制样一般常用电压是30KV;
  (5)样品最好表面抛光。

  2. FIB-TEM制样流程图是什么?
  (1)找到目标位置,表面喷Pt保护;
  (2)把目标位置前后两侧挖空,剩下目标区域;。
  (3)机械纳米手将这个薄片取出,开始离子束减薄;
  (4)减薄到理想厚度后停止;
  (5)将样品焊到铜网上的样品柱上。一个铜网上有4个柱子,最多可以放4个样品。
  注意事项:制备好的样品,需要装在自吸附盒里,避免强烈碰撞,强烈碰撞会导致样品从样品柱上脱落,一旦脱落,样品无法找回。

  3. 可以接粉体样么?
  可以,一般是滴在硅片上风干后制样。

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